Die Silizium-Photonik beschäftigt sich mit der Miniaturisierung optischer und elektro-optischer Bauelemente in Silizium, welche zu komplexen integrierten photonischen Schaltkreisen zusammengefügt werden können. Diese Schaltkreise lassen sich mit denselben Prozessschritten und Anlagen herstellen, wie sie auch in der hochentwickelten Mikroelektronik eingesetzt werden (CMOS). Eine kostengünstige Massenfertigung von Chips, die gleichzeitig optische und elektrische Funktionen zeigen lässt sich so realisieren.

Innerhalb verschiedener Forschungsprojekte wurden zahlreiche passive Bauelemente wie Wellenleiter und Mikroresonatoren als spektrale Filter aber auch aktive elektro-optische Komponenten entworfen und charakterisiert. Zu diesen gehören Raman-Laser, elektrooptische Modulatoren, elektrooptische Schalter und Delay Generatoren.

Die Layouts mit den Strukturen wurden beim Projektpartner IHP in der dort vorhandenen 130 nm SiGe BiCMOS-Prozesslinie durch 248 nm DUV-Lithographie auf 200 mm SOI-Wafern hergestellt und anschließend mit den Messaufbauten der Arbeitsgruppe charakterisiert.

Zimmermann, L., Gajda, A., Winzer, G., Richter, H., Voigt, K., Meister, S., Rhee, H., Theiss, C., Al-Saadi, A., Franke B., Kupijai, S., Woggon, U., Tillack, B., Petermann, K.,  Integrated Photonics Research, Silicon and Nano-Photonics (IPR), Rio Grande, PuertoRico; 2013

Meister, S., Franke, B., Eichler, H.,, Kupijai, S.,, Al-Saadi, A.,, Zimmermann, L..  Photonic Integrated Circuits for Optical Communication, Optik & Photonik, 7, 2, p.59–62, , DOI: 10.1002/opph.201290052; 2012